[发明专利]光学薄膜的制造方法及光学薄膜有效
| 申请号： | 200910008363.9 | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101520576A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 山田朋文;下田一弘 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;B05D7/04;B05D3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学薄膜的制造方法及光学薄膜，其提供一种通过在基体薄膜背面及涂布膜面附着已气化的低分子量化合物来制造没有污染不均的光学薄膜的方法。该制造方法是在连续输送的带状基体薄膜(14)上涂布固化性涂布液，在干燥区(32)利用加热风干燥涂布层，然后在固化区(36)使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其中，在干燥区(32)与固化区(36)之间隔着间隔设置中间区(34)，同时将中间区(34)的温度控制成低于干燥区(32)的温度和固化区(36)的温度的任意一方，而且，利用结露抑制机构防止在干燥区(32)及固化区(36)发生的已气化的低分子量化合物的结露。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光学薄膜的制造方法，其是在被连续输送的带状基体薄膜上涂布固化性涂布液，在干燥区用加热风干燥涂布层，然后在固化区使该涂布层固化的光学薄膜的制造方法，其特征在于，在所述干燥区与所述固化区之间隔着间隔设置中间区，并且，将该中间区的温度控制成低于所述干燥区的温度和所述固化区的温度的任意一方，而且，用结露抑制机构防止在所述干燥区及所述固化区发生的已气化的低分子量化合物的结露。
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