[发明专利]用于压缩存储单元阵列的带状接触孔方案有效
申请号: | 200910000424.7 | 申请日: | 2009-01-08 |
公开(公告)号: | CN101625893A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 朱怡欣;王士玮 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G11C16/02 | 分类号: | G11C16/02 |
代理公司: | 北京市德恒律师事务所 | 代理人: | 梁 永 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种用于存储单元阵列且具有多带状接触孔配置的半导体器件,提供了和位线、控制栅极线、擦除栅极线、共源极线以及字线互连的存储单元的阵列。根据实施例的一个方面,带状接触孔通道在整个阵列上以n个位线间隔(n>1)分隔开。所述带状接触孔通道包括带状接触孔单元,所述带状接触孔单元提供控制栅极线、擦除栅极线、共源极线及字线与它们各自的带之间的电性互连。 | ||
搜索关键词: | 用于 压缩 存储 单元 阵列 带状 接触 方案 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:按照阵列排列的多个存储单元;多个位线,每个位线在所述阵列中形成一列;多个控制栅极线,每个控制栅极线在所述阵列中形成控制栅极子行;多个擦除栅极线,每个擦除栅极线在所述阵列中形成擦除栅极子行;多个共源极线,每个共源极线在所述阵列中形成共源极线子行;多个字线,每个字线在所述阵列中形成字线行;多个带,每个带与所述控制栅极线、所述擦除栅极线、所述共源极线及所述字线中的至少一个电连接,其中所述带的每一个都通过带状接触孔单元中的带状接触孔电连接到所述控制栅极线、所述擦除栅极线、所述共源极线及所述字线中的每一个;第一存储单元,其与第一位线、第一控制栅极线、共用擦除栅极线、共源极线及第一字线电连接;第二存储单元,其与所述第一位线、第二控制栅极线、所述共用擦除栅极线、所述共源极线及第二字线电连接,其中所述第一存储单元与所述第二存储单元形成单元组;多个带状接触孔单元,其中每个带状接触孔单元具有和所述单元组基本相同的长度及具有所述单元组大约1到3倍的宽度;以及多个带状接触孔通道,每个带状接触孔通道在所述阵列中形成子列,其中每个带状接触孔通道包括至少一个带状接触孔单元,并且其中每个带状接触孔通道的宽度基本是每个带状接触孔单元的宽度。
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