[发明专利]用于控制多种金属在适于熔融所述金属的空腔中的引入的方法和装置有效
申请号: | 200880131967.6 | 申请日: | 2008-11-14 |
公开(公告)号: | CN102216485A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | B.格勒尼耶;A.达吕安 | 申请(专利权)人: | 西门子VAI金属科技有限公司 |
主分类号: | C23C2/00 | 分类号: | C23C2/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张群峰 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种用于控制多种金属以锭块的形式在空腔中的引入的方法和装置,其中所述空腔适于熔融所述金属。特别地,根据本发明的方法提供对多种金属引入空腔(2、3)中的控制,所述空腔适于熔融所述金属,以用呈液体金属形式的所述金属来浸镀钢带(1),在所述方法中:第一金属以至少一个具有所述第一金属高含量的第一锭块(10)的形式来引入;第二金属以至少一个由第一金属和第二金属的合金所构成的第二锭块(11)的形式来引入,所述方法的特征在于:所述第二锭块的第二金属含量在有效含量范围内选择,以保证所追求的锭块累积熔融的整体流量;所述有效含量范围在具有按顺序增大的数值的受限区间中选择,以最小化所述锭块的熔融温度之间的差别。 | ||
搜索关键词: | 用于 控制 多种 金属 适于 熔融 空腔 中的 引入 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于控制多种金属在空腔(2、3)中的引入的方法,其中所述空腔适于熔融所述金属,以用呈液体金属形式的所述金属来浸镀钢带(1),在所述方法中:‑第一金属以至少一个具有所述第一金属高含量的第一锭块(10)的形式来引入;‑第二金属以至少一个由所述第一金属和所述第二金属的合金所构成的第二锭块(11)的形式来引入,所述方法的特征在于:‑所述第二锭块的第二金属含量在有效含量范围内选择,以保证所追求的锭块累积熔融的整体流量;‑所述有效含量范围在具有按顺序增大的数值的受限区间中选择,以最小化所述锭块的熔融温度之间的差别。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物