[发明专利]产生用于对衬底表面进行构图的等离子体放电的设备有效
申请号: | 200880131491.6 | 申请日: | 2008-08-20 |
公开(公告)号: | CN102204414A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | 保卢斯·佩特鲁斯·玛利亚·布洛姆;菲利普·罗辛;阿尔昆·阿方斯·伊丽莎白·史蒂文斯;劳伦西亚·约翰娜·回吉布雷格特斯;埃迪·博斯 | 申请(专利权)人: | 视觉动力控股有限公司 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种产生用于对衬底表面构图的等离子体放电的设备,包括:具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极;高电压源,用于在第一电极和第二电极之间产生高电压差;和定位装置,用于关于衬底调整第一电极的位置;其中,定位装置被设置用于关于第二电极选择性地将第一电极调整至第一位置上和第二位置上,在第一位置上,第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够小,以支持高电压差下的等离子体放电,在第二位置上,第一放电部分和第二放电部分之间的距离足够大,以防止高电压差下的等离子体放电。 | ||
搜索关键词: | 产生 用于 衬底 表面 进行 构图 等离子体 放电 设备 | ||
【主权项】:
产生用于对衬底表面进行构图的等离子体放电的设备,包括:具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极;高电压源,用于在所述第一电极和所述第二电极之间产生高电压差;以及定位装置,用于相对于所述衬底对所述第一电极进行定位;其中,所述定位装置被设置为用于相对于所述第二电极将所述第一电极选择性地定位至第一位置和第二位置,在所述第一位置,所述第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够小,以支持所述高电压差下的所述等离子体放电,在所述第二位置,所述第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够大,以防止在所述高电压差下的等离子体放电。
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