[发明专利]产生用于对衬底表面进行构图的等离子体放电的设备

权利要求书

1.产生用于对衬底表面进行构图的等离子体放电的设备，包括：

具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极；

高电压源，用于在所述第一电极和所述第二电极之间产生高电压差；以及

定位装置，用于相对于所述衬底对所述第一电极进行定位；

其中，所述定位装置被设置为用于相对于所述第二电极将所述第一电极选择性地定位至第一位置和第二位置，在所述第一位置，所述第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够小，以支持所述高电压差下的所述等离子体放电，在所述第二位置，所述第一放电部分和所述第二放电部分之间的距离足够大，以防止在所述高电压差下的等离子体放电。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，

所述定位装置被设置为用于在朝向所述第二电极的方向上和远离所述第二电极的方向上移动所述第一电极。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，

所述第二电极被设计为鼓状物，在所述鼓状物的外表面上，能够将板状衬底置于所述鼓状物和所述第一电极之间，而将所述定位装置设置为用于在与所述外表面垂直的方向上移动所述第一电极。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其中，

所述定位装置被进一步设置为用于沿着所述衬底的表面对所述第一电极进行定位。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，进一步包括外壳，其中，所述第一电极由所述外壳至少部分地包围，并且所述第一电极是相对于所述外壳可移动的。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，

将所述高电压源设置为用于调整所述第一电极和所述第二电极之间的高电压差。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，包括：

多个第一电极和/或多个第二电极。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，

所述定位装置被设置为用于相对于一个或多个第二电极单独地对每个第一电极进行定位。

9.根据权利要求7或8所述的设备，其中，

所述定位装置被设置为用于相对于其余的第一电极单独地对每个第一电极进行定位。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，

所述第一电极是由导电地连接至所述高电压源的点阵式打印机的打印头的可移动笔形成的。

11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，

例如通过放电部分处的激光沉积或磨削、放电部分处的专门晶体生长或者通过在放电部分处提供碳纳米管，所述第一电极和/或所述第二电极是纳米结构的或微结构的。

12.产生用于对衬底表面进行构图的等离子体放电的设备，包括：

具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极；

高电压源，用于在所述第一电极和所述第二电极之间产生高电压差；以及

定位装置，用于相对于所述衬底对所述第一电极进行定位；

其中，所述定位装置被进一步设置为用于与所述第一电极同步地对所述第二电极进行定位。

13.根据权利要求12所述的设备，其中，

所述第一电极和所述第二电极机械地连接。

14.根据权利要求12或13所述的设备，其中，

所述高电压源被设置成：在第一模式中选择性地产生高电压差，以支持等离子体放电；在第二模式中产生降低的电压差或零电压差，以防止等离子体放电。

15.根据权利要求12-14中任一项所述的设备，包括：

多个第一电极和多个第二电极，其中，将所述高电压源设置为用于在至少一个第一电极和至少一个第二电极之间选择性地施加高电压。