[发明专利]涂覆助听器组件的方法和包括涂覆组件的助听器无效
| 申请号： | 200880130748.6 | 申请日： | 2008-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN102124756A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | J·E·韦斯特加德;J·M·奥森;L·H·克里斯坦森;K·B·豪格绍;T·A·拉尔森 | 申请（专利权）人： | 唯听助听器公司 |
| 主分类号： | H04R25/00 | 分类号： | H04R25/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵蓉民;张全信 |
| 地址： | 丹麦*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 用于涂覆助听器的方法，所述方法包括沉积不生成腐蚀性反应产物的粘合层。所述方法包括步骤：使用气相沉积将有机金属化合物施加至助听器组件的表面；诱导反应，以将有机金属化合物转化为金属氧化物；然后将硅烷分子施加至表面；和诱导所施加的硅烷分子和所述金属氧化物之间的反应。本发明还涉及包括助听器组件以及用于助听器组件的涂层的助听器，所述助听器组件设有包括氧化铝层的疏水涂层。在用于气相沉积前体的系统(701)中生成涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 助听器 组件 方法 包括 | ||
【主权项】：
涂覆助听器组件的方法，该方法包括下述步骤：a)提供助听器组件；b)使用气相沉积将有机金属化合物施加至所述助听器组件的表面；c)诱导包括所施加的有机金属化合物的反应，以将其转化为金属氧化物；d)使用气相沉积将硅烷分子施加至所述助听器组件表面上的所述金属氧化物；和e)诱导所施加的硅烷分子和所述金属氧化物之间的反应以在所述硅烷分子和所述金属氧化物之间形成共价键和/或与相邻的施加的硅烷分子共价连接。
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