[发明专利]用于纳米刻印光刻的多孔模板和刻印层叠物有效
| 申请号： | 200880117465.8 | 申请日： | 2008-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101868760A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | F·Y·徐;W·刘;E·B·弗莱切;S·V·斯里尼瓦桑;B-J·崔;N·胡斯努季诺夫;A·切罗拉;K·塞利尼迪斯 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03C5/00 | 分类号： | G03C5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉;周承泽 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种刻印光刻模板或刻印层叠物包含多孔材料，所述多孔材料限定出大量平均孔径至少约为0.4纳米的孔。所述多孔材料的孔隙率至少约为10％。所述多孔模板、所述多孔刻印层叠物、或者两者可以用于刻印光刻工艺，以促进夹在模板和刻印层叠物之间的气体扩散到模板、刻印层叠物、或者两者中，使得所述刻印层叠物和模板之间的可聚合材料在所述刻印层叠物和模板之间迅速地形成基本连续层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 刻印 光刻 多孔 模板 层叠 | ||
【主权项】：
一种刻印光刻模板，该模板包含多孔材料，所述多孔材料限定出大量平均孔径至少约为0.4纳米的孔，所述多孔材料的孔隙率至少约为10％。
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