[发明专利]针对透明基底材料的具有提高的光学性能的透明多孔SiO2涂层无效
| 申请号： | 200880106977.4 | 申请日： | 2008-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN101802058A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | F·埃德 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C03C1/00;C03C17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 石克虎;林森 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及针对透明基底材料的透明多孔SiO2涂层，其具有有利的光学性能。这些性能尤其可以通过等离子体处理实现。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 透明 基底 材料 具有 提高 光学 性能 多孔 sio sub 涂层 | ||
【主权项】：
针对透明基底材料的透明涂层，其特征在于，所述涂层基于SiO2，具有≥35％至≤65％的孔隙率和依擦拭试验≥95％的透射率。
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