[发明专利]具有高正表面电荷的高分散金属氧化物

摘要

一种金属氧化物，其用通式(I)的基团修饰：-O1+n-Si(OR1)2-n-R2-NR32(I)，其中n可以是0、1、2，其中R1可以是氢原子或C-O键合的C1-C15烃基，或乙酰基，R2可以是Si-C键合的C1-C20烃基或芳基，或C1-C15烃氧基，其中每种情况下，一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR3-替代，并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N＝、-N＝N-或-P＝替代，R3可以是氢原子或任选的单或多不饱和N-C键合的、单价的、任选二价的、C1-C20烃基，其任选被-CN、-NCO、-NR42、-COOH、-COOR4、卤素、丙烯酰基、环氧基、-SH、-OH或-CONR42取代，或芳基，或C1-C15烃氧基，其中每种情况下，一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR4-替代，并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N＝、-N＝N-或-P＝替代，R3可以相同或不同，或者氨基-N(R3)2也可以是脂族或芳香杂环的部分，R4具有与R1相同的含义，并且R4可以相同或不同，基于T基团T1+T2+T3的总强度，T1和T2基团的NMR信号强度的总和的比例至少为20％，T基团定义如下：T1：R-Si(OR1)2-O-Si，T2：R-Si(OR1)(-O-Si)2，T3：R-Si(-O-Si)3，R是任何希望的有机基团，R1如上所定义或R1可以是氢原子。

主权项

一种金属氧化物，其用通式(I)的基团修饰：-O1+n-Si(OR1)2-n-R2-NR32 (I)其中n可以是0、1、2，其中R1可以是氢原子或C-O键合的C1-C15烃基，或乙酰基，R2可以是Si-C键合的C1-C20烃基或芳基，或C1-C15烃氧基，其中每种情况下，一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR3-替代，并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N＝、-N＝N-或-P＝替代，R3可以是氢原子或任选的单或多不饱和N-C键合的、单价的、任选二价的、C1-C20烃基，其任选被-CN、-NCO、-NR42、-COOH、-COOR4、卤素、丙烯酰基、环氧基、-SH、-OH或-CONR42取代，或芳基，或C1-C15烃氧基，其中每种情况下，一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR4-替代，并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N＝、-N＝N-或-P＝替代，R3可以相同或不同，或者氨基-N(R3)2也可以是脂族或芳香杂环的部分，R4具有与R1相同的含义，并且R4可以相同或不同，基于T基团T1+T2+T3的总强度，T1和T2基团的NMR信号强度的总和的比例至少为20％，T基团定义如下：T1：R-Si(OR1)2-O-SiT2：R-Si(OR1)(-O-Si)2T3：R-Si(-O-Si)3，R是任何希望的有机基团，R1如上所定义或R1可以是氢原子。