[发明专利]等离子体工艺设备中用于至射频驱动电极的气体传递的射频扼流器有效
| 申请号： | 200880024220.0 | 申请日： | 2008-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN101689450A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 乔瑟夫·库德拉;卡尔·A·索伦森;约翰·M·怀特 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J7/24 | 分类号： | H01J7/24;H05B31/26 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;钟 强 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在大面积等离子体工艺系统中，工艺气体经由喷气头组件而导入腔室中，而喷气头组件可作为RF电极驱动。接地的气体供应管与喷气头为电性隔离。气体供应管不但提供工艺气体，还提供来自远程等离子体源的清洁气体至工艺室。气体供应管的内侧可以维持在低RF场或是零RF场，以避免早期气体在气体供应管中分解，而其可能导致在气体源及喷气头之间形成寄生等离子体。将气体供应通过RF扼流器，则RF场及工艺气体可经过共同位置而导入工艺室中，并因而简化腔室设计。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 工艺设备 用于 射频 驱动 电极 气体 传递 扼流器 | ||
【主权项】：
1、一种射频(RF)扼流器组件，包括：气体供应管，包括金属；以及一或多个亚铁盐组件，直接耦接至所述气体供应管，并至少部分地围绕所述气体供应管。
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