[发明专利]等离子体工艺设备中用于至射频驱动电极的气体传递的射频扼流器

权利要求书

1.一种RF扼流器组件，包括：

气体供应管，所述气体供应管包括金属；以及

多个亚铁盐组件，所述多个亚铁盐组件直接耦接至所述气体供应管，并且 所述多个亚铁盐组件至少部分地围绕所述气体供应管，其中所述多个亚铁盐组 件跨越所述气体供应管的预定长度，且其中相邻的亚铁盐组件沿着所述预定长 度以预定距离分隔开。

2.如权利要求1所述的组件，其中所述气体供应管包括第一内管，所述 第一内管由第二外管所围绕，其中所述第一内管与所述第二外管各自包括金 属。

3.一种RF扼流器组件，包括：

气体供应管，所述气体供应管包括金属；以及

一个或多个亚铁盐组件，所述一个或多个亚铁盐组件直接耦接至所述气体 供应管，并且所述一个或多个亚铁盐组件至少部分地围绕所述气体供应管，其 中所述一或多个亚铁盐组件包括多个亚铁盐盘，且其中相邻的亚铁盐盘由一或 多个O形环而分隔开，其中所述气体供应管包括铝。

4.一种RF扼流器组件，包括：

气体供应管，所述气体供应管包括金属；以及

一个或多个亚铁盐组件，所述一个或多个亚铁盐组件直接耦接至所述气体 供应管，并且所述一个或多个亚铁盐组件至少部分地围绕所述气体供应管，其 中所述气体供应管包括第一内管，所述第一内管由第二外管所围绕，所述气体 供应管还包括一或多个组件，所述一或多个组件设置在所述第一内管及所述第 二外管之间，所述一或多个组件经定位以改变冷却流体在所述第一内管与所述 第二外管之间的流动路径，其中所述一或多个组件包括金属线，所述金属线缠 绕于所述第一内管周围以产生缠绕路径，由此，在所述第一内管与所述第二外 管之间的区域流动的所述冷却流体沿着所述第一内管与所述第二外管之间的 所述缠绕路径流动，其中所述金属线延伸于所述第一内管与所述第二外管之 间。

5.一种等离子体工艺设备，包括：

RF功率源；

气体源；以及

RF扼流器组件，所述RF扼流器组件耦接于所述RF功率源与所述气体源 之间，所述组件包括：

气体供应管，所述气体供应管包括金属、第一端和第二端，所述第一 端与所述气体源耦接，所述第二端与所述RF功率源耦接；以及

多个亚铁盐组件，所述多个亚铁盐组件直接耦接至所述气体供应管， 并且所述多个亚铁盐组件至少部分地围绕所述气体供应管，其中所述多个 亚铁盐组件跨越所述气体供应管的预定长度，且其中相邻的亚铁盐组件沿 着所述预定长度以预定距离分隔开。

6.如权利要求5所述的设备，其中所述气体供应管包括第一内管，所述 第一内管由第二外管所围绕。

7.如权利要求5所述的设备，其中所述气体供应管的所述第二端接地。

8.一种等离子体工艺设备，包括：

RF功率源；

气体源；以及

RF扼流器组件，所述RF扼流器组件耦接于所述RF功率源与所述气体源 之间，所述组件包括：

气体供应管，所述气体供应管包括金属、第一端和第二端，所述第一 端与所述气体源耦接，所述第二端与所述RF功率源耦接；以及

一个或多个亚铁盐组件，所述一个或多个亚铁盐组件直接耦接至所述 气体供应管，并且所述一个或多个亚铁盐组件至少部分地围绕所述气体供 应管，其中所述一或多个亚铁盐组件包括多个亚铁盐盘，且其中相邻的亚 铁盐盘由一或多个O形环而分隔开，其中所述气体供应管包括铝。