[发明专利]全内反射位移刻度尺无效
| 申请号： | 200880021043.0 | 申请日： | 2008-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101680780A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·H·卡尔森;达莱·L·埃内斯;丹尼尔·S·沃茨;路易斯·A·阿吉雷;利文特·伯耶克勒;艾伦·B·坎贝尔 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G01D5/34 | 分类号： | G01D5/34;G01B11/02;G01N21/55;G02B5/04;G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了使用包括TIR刻度特征物的刻度尺用于确定基底位移的方法和系统。包括作为刻度尺元件的多个全内反射(TIR)棱镜的刻度尺被设置在基底上。被导向刻度尺的光由TIR棱镜调制。根据已调制光产生指示基底的位移的信号。信号可以用于确定幅材位置、控制幅材的移动、和/或测量多种幅材参数。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 位移 刻度尺 | ||
【主权项】：
1.一种确定基底位移的方法，包括：将光导向设置在基底上的刻度尺，所述刻度尺包括作为刻度尺元件的多个全内反射(TIR)棱镜；使用所述全内反射棱镜来调制所述光；以及根据已调制光来产生信号，所述信号指示基底位移。
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