[发明专利]萘基咔唑衍生物,KL基质材料,使用该材料的有机发光装置,使用该材料的显示设备和发光设备有效
申请号: | 200880018233.7 | 申请日: | 2008-03-27 |
公开(公告)号: | CN101730681A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 姜京敏;李得相;李昌俊;高炅汶;李锺淳;金世勳 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C07D209/82 | 分类号: | C07D209/82;C09K11/06 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了萘基咔唑衍生物。该萘基咔唑衍生物如式1所示。本发明进一步提供了KL基质材料、使用该基质材料的有机电致发光装置、以及包括该装置的显示器和发光系统。 | ||
搜索关键词: | 萘基咔唑 衍生物 kl 基质 材料 使用 有机 发光 装置 显示 设备 | ||
【主权项】:
1.式1所示的化合物:
其中每个Ar1选自取代或未取代的C6-C30的芳烃基团,所述芳烃基团可选择性包含至少一种不饱和脂肪族部分,C2-C10的不饱和脂肪族烃基团,以及取代或未取代的C2-C24的不饱和杂环基团;R1和R2各自独立地选自氢,C6-C24的芳烃基团和含有至少一种不饱和脂肪族部分的C6-C30的芳烃基团;而X选自碳、硅、氧和硫,如果X是碳或硅时,m是4且n是1至4的整数,而当X是氧或硫时,m是2且n是1或2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友精细化工有限公司,未经东友精细化工有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880018233.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:茚满-胺衍生物、其制备方法和作为药物的用途
- 下一篇:幼儿座椅把手