[发明专利]基于共轭二烯的聚合物、其制造方法和共轭二烯聚合物组合物有效
| 申请号: | 200880006618.1 | 申请日: | 2008-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN101622277A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
| 发明(设计)人: | 大岛真弓 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | C08C19/25 | 分类号: | C08C19/25;C08C19/42;C08F4/48;C08L9/00;C08C19/44 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段晓玲;孙秀武 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的目的是提供在将二氧化硅作为填料掺入时能够提供在燃料消耗的降低方面优异的聚合物组合物的共轭二烯基聚合物、制造该共轭二烯基聚合物的方法以及包含所述共轭二烯基聚合物和二氧化硅的聚合物组合物。本发明提供了包含共轭二烯基结构单元和式(I)所示的结构单元的共轭二烯基聚合物,其中式(I)所示的所述结构单元在共轭二烯基结构单元之一与另一个之间,(其中X1、X2和X3独立地代表式(II)所示的基团、氢氧根或烃基,且X1、X2和X3中的至少一个是式(II)所示的基团或氢氧根,其中R1和R2独立地代表具有1至6个碳原子的烃基,其可以含有氮原子、氧原子或硅原子,且R1和R2可合并形成环结构)。 | ||
| 搜索关键词: | 基于 共轭 聚合物 制造 方法 组合 | ||
【主权项】:
1.包含共轭二烯基结构单元和下式(I)所示的结构单元的共轭二烯基聚合物,其中式(I)所示的所述结构单元在所述共轭二烯基结构单元之一与另一个之间:
(其中X1、X2和X3独立地代表下式(II)所示的基团、氢氧根或烃基,且X1、X2和X3中的至少一个是式(II)所示的基团或氢氧根:
其中R1和R2独立地代表具有1至6个碳原子的烃基,其能够含有氮原子、氧原子或硅原子,且R1和R2能够合并形成环结构)。
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