[实用新型]一种荫罩式等离子体显示板无效

专利信息
申请号: 200820185389.1 申请日: 2008-09-24
公开(公告)号: CN201259874Y 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: 李青;汤勇明;郑姚生;朱笛;王保平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49;H01J17/04
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 陆志斌
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种荫罩式等离子体显示板,涉及一种等离子体显示板,尤其涉及一种荫罩式等离子体显示板。本实用新型包括前基板、后基板、荫罩,其中荫罩封装在前基板、后基板之间,荫罩为包含面孔阵列和底孔阵列的导电板,面孔与底孔属于同一个放电单元的上下表面,在面孔内壁涂覆荧光粉层,使放电的基本单元中面孔对应的空间是可见光发光区域,其特征在于在后基板保护膜表面制备一层漫反射膜,对深紫外光吸收较小,将面孔空间中通过底孔射到后基板表面的可见光反射到面孔中,部分射出前基板,为人眼所接收。本实用新型实现了改善亮度和发光效率的目的。
搜索关键词: 一种 荫罩式 等离子体 显示
【主权项】:
1、一种荫罩式等离子体显示板,包括前基板(1)、后基板(2)、荫罩(3),其中荫罩(3)封装在前基板(1)、后基板(2)之间,所述的前基板(1)包括前衬底玻璃基板(4)、扫描电极(5)、前基板介质层(6)、前基板保护膜(7),扫描电极(5)平行设置在前衬底玻璃基板(4)上,前基板介质层(6)覆盖在扫描电极(5)上,前基板保护膜(7)覆盖在前基板介质层(6)上;所述的后基板(2)包括后衬底玻璃基板(8)、寻址电极(9)、后基板介质层(10)和后基板保护膜(11),寻址电极(9)平行设置在后衬底玻璃基板(8)上,后基板介质层(10)覆盖在寻址电极(9)上,后基板保护膜(11)则覆盖在后基板介质层(10)上;寻址电极(9)与扫描电极(5)成空间垂直正交;荫罩(3)为包含面孔(12)阵列和底孔(13)阵列的导电板,面孔(12)与底孔(13)属于同一个放电单元的上下表面,前基板(1)相对的面孔(12)的面积是其与后基板(2)相对的底孔(13)面积的10~20倍,每一个面孔(12)的上开口(14)宽度为底孔(13)下开口(15)宽度的2~4倍;扫描电极(5)与荫罩(3)上的面孔(12)的上开口(14)面对放置并置于中间位置,寻址电极(10)与荫罩(3)上的底孔(13)的下开口(15)相对放置并置于中间位置,所述荫罩(3)、扫描电极(5)、寻址电极(9)组成介质阻挡型交流放电型的基本单元;在面孔(12)内壁涂覆荧光粉层,使放电的基本单元中面孔(12)对应的空间是可见光发光区域,一部分可见光直接或射到内壁反射后射出前基板(1),为人眼所接收,另一部分直接或经过内壁反射到后基板出射,不能为人眼所接收,其特征在于在后基板保护膜(11)表面制备一层漫反射膜(16),对深紫外光吸收较小,将面孔(12)空间中通过底孔(13)射到后基板表面的可见光反射到面孔(12)中,部分射出前基板(1),为人眼所接收。
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