[实用新型]托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托有效
| 申请号： | 200820137425.7 | 申请日： | 2008-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN201245726Y | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 万跃鹏 | 申请（专利权）人： | 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 338000江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种与多晶硅铸锭领域用的坩埚配套的附属装置，特别是涉及托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托。本实用新型的技术方案由没有安装缝隙的连为一体的坩埚托侧壁与坩埚托底板组成，坩埚托侧壁围绕的分布在坩埚托底板的四周边缘；坩埚托侧壁与坩埚托底板共同围成一个可放置多晶硅生产领域用的坩埚的下部的空腔。多晶硅生产领域用的坩埚的下部可放置在空腔中。本实用新型在多晶硅生产领域，首先使用了一体化的坩埚托设计。本实用新型可以起到固定石英坩埚形状的作用，又可以防止当硅液发生漏流时，漏流出石英坩埚的硅料被该坩埚托盘盛住，从而消除了硅液漏流可能会引起的重大安全隐患。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 生产 领域 坩埚 下部 防漏 | ||
【主权项】：
1、一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托，其特征在于：该坩埚托(1)由没有安装缝隙的连为一体的坩埚托侧壁(2)与坩埚托底板(3)组成，坩埚托侧壁(2)围绕的分布在坩埚托底板(3)的四周边缘；坩埚托侧壁(2)与坩埚托底板(3)共同围成一个可放置多晶硅生产领域用的坩埚(4)的下部的空腔。
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