[实用新型]托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托有效

专利信息
申请号: 200820137425.7 申请日: 2008-08-22
公开(公告)号: CN201245726Y 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 万跃鹏 申请(专利权)人: 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06
代理公司: 江西省专利事务所 代理人: 杨志宇
地址: 338000江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 多晶 生产 领域 坩埚 下部 防漏
【权利要求书】:

1、一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:该坩埚托(1)由没有安装缝隙的连为一体的坩埚托侧壁(2)与坩埚托底板(3)组成,坩埚托侧壁(2)围绕的分布在坩埚托底板(3)的四周边缘;坩埚托侧壁(2)与坩埚托底板(3)共同围成一个可放置多晶硅生产领域用的坩埚(4)的下部的空腔。

2、如权利要求1所述的一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:防漏流的坩埚托由四块矩形的坩埚托侧面板构成的坩埚托侧壁(2)和一块矩形的坩埚托底板(3)组成,四块矩形的坩埚托侧面板构成的坩埚托侧壁(2)和一块矩形的坩埚托底板(3)共同围成一个立体长方的空腔。

3、如权利要求2所述的一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:立体长方的空腔的长:宽:高尺寸为60-210cm:60-210cm:10-210cm。

4、如权利要求1所述的一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:坩埚托侧壁(2)的壁厚为1-50mm;坩埚托底板(3)的壁厚为1-50mm。

5、如权利要求1所述的一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:坩埚托外形是圆筒形。

6、如权利要求1所述的一种托在多晶硅生产领域用的坩埚下部的防漏流的坩埚托,其特征在于:防漏流的坩埚托(1)由碳-碳复合材料制成。

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