[实用新型]化学机械研磨装置无效
| 申请号： | 200820060959.4 | 申请日： | 2008-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN201329543Y | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | 程晓华;方精训;邓镭 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B7/22;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种化学机械研磨装置，包括研磨台，研磨台上设置有研磨垫固定底盘，研磨垫固定底盘上设置有研磨垫。所述研磨垫固定底盘与研磨台之间为可拆卸连接。本实用新型将研磨垫的安装、更换及工艺前的表面预处理放到可从研磨台上拆卸的研磨垫固定底盘上提前独立完成，因此无需在研磨台上进行研磨垫的更换及表面预处理，这样可以大大简化研磨垫的更换维护程序，不需要占用太多的CMP设备的作业时间，能够提高设备的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨装置，其特征在于：包括研磨台，研磨台上设置有研磨垫固定底盘，研磨垫固定底盘上设置有研磨垫。
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