[实用新型]新型大理石雕饰无效
| 申请号： | 200820044900.6 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN201183426Y | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 涂世学 | 申请（专利权）人： | 涂世学 |
| 主分类号： | B44C5/00 | 分类号： | B44C5/00;B44C5/08;B44D7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523000广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型是一种新型大理石雕饰。包括大理石基材(1)，在整个大理石基材(1)的表面上设有透明的保护层(2)，大理石基材(1)的表面雕刻着一组或多组构成完整图案的槽纹(3)，槽纹(3)内填充可以反射或折射光线的颗粒(4)，槽纹(3)以及槽纹(3)内的颗粒(4)均为保护层(2)覆盖。既能制成平滑的表面效果，又能制成凹凸的立体效果，通过反射或折射光线带来全新的视觉效果和审美享受，在任何大理石产品上均能任意实施，结构简单容易实施，而且经久耐用。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 大理石 雕饰 | ||
【主权项】：
1、新型大理石雕饰，包括大理石基材(1)，在整个大理石基材(1)的表面上设有透明的保护层(2)，其特征在于：大理石基材(1)的表面雕刻着一组或多组构成完整图案的槽纹(3)，槽纹(3)内填充可以反射或折射光线的颗粒(4)，槽纹(3)以及槽纹(3)内的颗粒(4)均为保护层(2)覆盖。
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