[发明专利]使用普通喷嘴实现降低阻胶消耗的光刻胶涂布工艺无效
| 申请号： | 200810207833.X | 申请日： | 2008-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101762983A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 徐建卫 | 申请（专利权）人： | 上海先进半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 20023*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种使用普通喷嘴实现降低阻胶消耗的光刻胶涂布工艺，利用空闲的喷嘴，在空闲的喷嘴的管路中添加溶剂，该光刻胶涂布工艺包括：将空闲的喷嘴移动至硅片中心，硅片保持静止；空闲的喷嘴向硅片上喷射溶剂，硅片保持静止；空闲的碰嘴返回，硅片保持静止；光刻胶喷嘴移动至硅片中心，硅片保持静止；加速旋转硅片至第一旋转速度；光刻胶喷嘴向硅片上喷射光刻胶，硅片保持第一旋转速度；将硅片的旋转减速至第二旋转速度，第二旋转速度小于第一旋转速度；维持硅片以第二旋转速度旋转第一时间，光刻胶喷嘴返回。本发明在不对普通的光刻胶涂胶设备进行改造的情况下，利用空闲的光刻胶喷嘴，结合新的工艺流程，达到节省光刻胶用量45％的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 普通 喷嘴 实现 降低 消耗 光刻 胶涂布 工艺 | ||
【主权项】：
一种使用普通喷嘴实现降低阻胶消耗的光刻胶涂布工艺，其特征在于，利用空闲的喷嘴，在所述空闲的喷嘴的管路中添加溶剂，所述光刻胶涂布工艺包括：将空闲的喷嘴移动至硅片中心，硅片保持静止；空闲的喷嘴向硅片上喷射溶剂，硅片保持静止；空闲的碰嘴返回，硅片保持静止；光刻胶喷嘴移动至硅片中心，硅片保持静止；加速旋转硅片至第一旋转速度；光刻胶喷嘴向硅片上喷射光刻胶，硅片保持第一旋转速度；将硅片的旋转减速至第二旋转速度，第二旋转速度小于第一旋转速度；维持硅片以第二旋转速度旋转第一时间，光刻胶喷嘴返回。
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