[发明专利]芳族(甲基)丙烯酸酯化合物、光敏聚合物、以及抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200810184087.7 | 申请日： | 2008-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101462957A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 崔相俊;赵娟振;辛乘旭;金惠元 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | C07C69/54 | 分类号： | C07C69/54;C08F220/18;C08F222/14;C08F220/30;G03F7/028 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;张 英 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种芳族(甲基)丙烯酸酯化合物和一种光敏聚合物、以及一种抗蚀剂组合物。芳族(甲基)丙烯酸酯化合物是由右边化学式1表示的具有α-羟基的芳族(甲基)丙烯酸酯。在右边化学式1中，每种取代基与在说明书中的限定相同。本发明的芳族(甲基)丙烯酸酯化合物光敏聚合物在光刻工艺中具有对于底层极好的粘合特性和极好的抗干蚀刻性，并且因此可以用来制备具有极好光刻特性的抗蚀剂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 芳族 甲基 丙烯酸酯 化合物 光敏 聚合物 以及 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1. 一种具有α-羟基并由以下化学式1表示的芳族(甲基)丙烯酸酯化合物：[化学式1]其中，在以上化学式中，R1是氢或甲基，R2是氢、烷基、芳基、或它们的组合，R3和R4独立地是氢、卤素、烷基、烷氧基、或它们的组合，R和R′独立地是氢或烷基，X是从1到6范围的整数，而n是从0到2范围的整数。
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