[发明专利]用于薄膜光电装置的工艺测试器和测试方法无效

专利信息
申请号: 200810173403.0 申请日: 2008-10-22
公开(公告)号: CN101425550A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 米歇尔·兰吉特·弗赖;苏杰发 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明一般涉及工艺测试器和采用标准光电电池工艺制造工艺测试器的方法。本发明尤其涉及通过激光刻划确定的工艺测试器配置、用于产生工艺测试器的方法、将工艺测试器用于光电生产线诊断的方法、在光电模块生产中工艺测试器的放置、以及用于产生设计规则测试器的方法。
搜索关键词: 用于 薄膜 光电 装置 工艺 测试 方法
【主权项】:
1. 一种形成用于测试薄膜光电生产工艺的装置的方法,包括:在基板上形成前透明导电氧化物层;在该装置的隔离区域中的该前透明导电氧化物层中激光刻划凹槽;在该前透明导电氧化物层之上形成吸收层;在该吸收层之上形成后反射层;以及在该装置的隔离区域中的该后反射层中激光刻划凹槽,其中该隔离区域将该装置与相邻光电结构电隔离。
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