[发明专利]图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200810170783.2 申请日: 2008-10-29
公开(公告)号: CN101424876A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 加藤薰子;山口欣秀;长谷部健彦;岸雅一;山口刚 申请(专利权)人: 日立比亚机械股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004;G03F7/06;G03F7/20;G03F7/038;G03F7/039
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 熊志诚
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明是一种图案形成方法,包括以下工序:在基板上成形成对由无掩模直接描画曝光装置照射的主波长的h线灵敏度低、对含有紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜的工序;在上述第一感光性材料上形成对上述主波长的h线灵敏度高的第二感光性材料的工序;使用无掩模直接描画曝光装置对上述第二感光性材料描画第二图案的工序;使第二感光性材料显像的工序;对已形成第二图案的上述第二感光性材料和第一感光性材料一起曝光的工序;剥离第二感光性材料的工序;使第一感光性材料显像、形成作为目标的第一图案的工序。
搜索关键词: 图案 形成 方法
【主权项】:
1. 一种图案形成方法,其特征在于,包括以下工序:成膜工序,在基板上形成对可见光灵敏度低、对含有紫外光或近紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜;形成工序,在上述第一感光性材料上形成对可见光的灵敏度比上述第一感光性材料还高的第二感光性材料;第一曝光工序,使用照射由上述可见光构成的曝光光的无掩模直接描画曝光装置、对上述第二感光性材料描画第二图案;第一显像工序,用显像液处理该已描画的第二感光性材料而形成第二图案;第二曝光工序,对形成在上述第一感光性材料上的上述第二感光性材料一起照射含有上述紫外光或近紫外光的能线,对上述第一感光性材料转印上述第二图案而使第一图案曝光;剥离工序,从该第二曝光工序中已曝光的第一感光性材料上除去上述第二感光性材料;第二显像工序,用显像液处理该剥离工序中残留下的第一感光性材料,形成上述第一图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立比亚机械股份有限公司,未经日立比亚机械股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810170783.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top