[发明专利]图案形成方法无效
申请号: | 200810170783.2 | 申请日: | 2008-10-29 |
公开(公告)号: | CN101424876A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | 加藤薰子;山口欣秀;长谷部健彦;岸雅一;山口刚 | 申请(专利权)人: | 日立比亚机械股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/06;G03F7/20;G03F7/038;G03F7/039 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 熊志诚 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是一种图案形成方法,包括以下工序:在基板上成形成对由无掩模直接描画曝光装置照射的主波长的h线灵敏度低、对含有紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜的工序;在上述第一感光性材料上形成对上述主波长的h线灵敏度高的第二感光性材料的工序;使用无掩模直接描画曝光装置对上述第二感光性材料描画第二图案的工序;使第二感光性材料显像的工序;对已形成第二图案的上述第二感光性材料和第一感光性材料一起曝光的工序;剥离第二感光性材料的工序;使第一感光性材料显像、形成作为目标的第一图案的工序。 | ||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种图案形成方法,其特征在于,包括以下工序:成膜工序,在基板上形成对可见光灵敏度低、对含有紫外光或近紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜;形成工序,在上述第一感光性材料上形成对可见光的灵敏度比上述第一感光性材料还高的第二感光性材料;第一曝光工序,使用照射由上述可见光构成的曝光光的无掩模直接描画曝光装置、对上述第二感光性材料描画第二图案;第一显像工序,用显像液处理该已描画的第二感光性材料而形成第二图案;第二曝光工序,对形成在上述第一感光性材料上的上述第二感光性材料一起照射含有上述紫外光或近紫外光的能线,对上述第一感光性材料转印上述第二图案而使第一图案曝光;剥离工序,从该第二曝光工序中已曝光的第一感光性材料上除去上述第二感光性材料;第二显像工序,用显像液处理该剥离工序中残留下的第一感光性材料,形成上述第一图案。
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