[发明专利]注入虚置图案的方法及掩模

摘要

本发明公开了一种注入虚置图案的方法及掩模，该方法包括提供包括主要图案的窗口区，其中主要图案包括具有第一结构类型的第一图案及具有第二结构类型的第二图案，且第一结构类型与第二结构类型是不同的类型，全面性地于窗口区注入第一虚置图案，其中第一虚置图案为第一结构类型的虚置图案，放大主要图案以产生放大型主要图案，其中放大型主要图案占据窗口区的放大区域，自第一虚置图案移除第一虚置图案位于放大区域中的部分，以产生第一反相虚置图案，及结合主要图案中的第一图案与第一反相虚置图案，以产生第一结构类型的第一掩模图案。本发明中GDS文件尺寸增加可缩到最小，虚置图案的注入加快，减少产品定案负担，并可较佳的保护技术机密。

主权项

1. 一种注入虚置图案的方法，包括：提供包括一主要图案的一窗口区，其中该主要图案包括具有一第一结构类型的第一图案及具有一第二结构类型的第二图案，且其中该第一结构类型与该第二结构类型是不同的类型；全面性地于该窗口区注入第一虚置图案，其中所述第一虚置图案为所述第一结构类型的虚置图案；放大该主要图案以产生一放大型主要图案，其中该放大型主要图案占据该窗口区的一放大区域；自所述第一虚置图案移除所述第一虚置图案位于该放大区域中的部分，以产生第一反相虚置图案；以及结合该主要图案中的所述第一图案与所述第一反相虚置图案，以产生所述第一结构类型的第一掩模图案。