[发明专利]含有机金属错合物的酞菁化合物及其用途无效
申请号: | 200810147409.0 | 申请日: | 2008-08-15 |
公开(公告)号: | CN101648954A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 沙晋康;杨政奋;程平昌;张庆荣;颜光甫;洪安威 | 申请(专利权)人: | 有化科技股份有限公司 |
主分类号: | C07D487/22 | 分类号: | C07D487/22;C07F15/00;G11B7/242 |
代理公司: | 北京天平专利商标代理有限公司 | 代理人: | 孙 刚 |
地址: | 中国台湾新竹市新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明亦有关一种制备式(1)所示之酞菁化合物的新颖方法,及该化合物用作为光学记录媒体的记录层之应用。式(1)中,各符号如说明书之定义。 | ||
搜索关键词: | 有机 金属 错合物 化合物 及其 用途 | ||
【主权项】:
1.一种以下式(1)所表示的含有金属双(环戊二烯基)的酞菁化合物(metallocenyl-phthalocyanines),
式(1)其中,M1代表2个氢原子、二价的金属原子、具单一配位基的三价金属原子或具二个配位基的四价金属原子;Y1、Y2、Y3、Y4选自-O-R1、-S-R1及-NR1R2所组成的组群;R1、R2可独立分别为氢原子;C1~C10直链、分枝、环状的经取代或未经取代的烷基;C2~C10直链、分枝、环状烯基;C2~C10直链、分枝、环状的炔基;Z为
其中R3和R4独立分别为氢原子、C1~C4烷基或C2~C4烯基;R5和R6独立分别为氢原子、C1~C4烷基、卤素原子、硝基、C1~C4烷氧基、C1~C4烷胺基、二(C1~C4烷基)胺基或P(Ar)2的二芳基膦,而Ar为未经取代或经取代的苯基;M2为Fe、Co或Ni;其中l、m、n、o独立分别为0、1或2,且(l+m+n+o)在1~8的范围。
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