[发明专利]像素结构、彩色滤光基板及其相应的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810145007.7 申请日: 2008-08-01
公开(公告)号: CN101639583A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 林峰生;潘易民 申请(专利权)人: 奇美电子股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G03F7/00;G02F1/1362
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈松涛;王 英
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半穿透半反射型像素结构的制造方法,其包括下列步骤:首先,提供基板。基板具有至少一个穿透区及至少一个反射区。接着,在基板上方形成披覆层,其覆盖基板的穿透区与反射区。之后,进行压印工艺,以使对应穿透区的披覆层的厚度变得比对应反射区的披覆层厚度薄。
搜索关键词: 像素 结构 彩色 滤光 及其 相应 制造 方法
【主权项】:
1、一种半穿透半反射型像素结构的制造方法,包括:提供基板,该基板具有至少一个穿透区和至少一个反射区;在所述基板上方形成披覆层,其覆盖所述基板的所述穿透区与所述反射区;以及进行压印工艺,以使对应于所述穿透区的所述披覆层的厚度变得比对应于所述反射区的所述披覆层的厚度薄。
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