[发明专利]发光二极管及发光二极管效能控制方法无效

专利信息
申请号: 200810135795.1 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101629679A 公开(公告)日: 2010-01-20
发明(设计)人: 沈伟;李远林;杨玉千 申请(专利权)人: 光燿科技股份有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V1/00;H01L33/00;F21Y101/02
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种发光二极管及发光二极管效能控制方法,此控制方法包括:首先,预先设定发光二极管的发光效能预设标准值;接着,测量待测发光二极管的发光效能;之后,计算待测发光二极管的发光效能与预设标准值的差异值;最后,根据此差异值,于发光二极管发光路径中的至少一元件上形成破坏性结构,破坏性结构的范围与差异值成正比。经由破坏性结构改变发光二极管发光路径中的元件的光学特性,使发光路径中的元件发光效率下降、不发光或降低其光穿透率,可使每个发光二极管具有一致的发光效能。
搜索关键词: 发光二极管 效能 控制 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管,包括一基板,所述基板上设置有一第一金属接脚和一第二金属接脚,所述第一金属接脚上设置有一发光芯片,所述发光芯片一侧形成一第一出光面;所述发光芯片与所述第二金属接脚之间连接有一导线;所述发光芯片可发出光束,所述光束由所述第一出光面射出并形成发光路径;其特征在于:所述发光路径中的至少一元件上形成有破坏性结构。
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