[发明专利]曝光系统及其控制方法有效
| 申请号： | 200810125995.9 | 申请日： | 2008-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101419408A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 金乙泰;李成进;朴相玄;裴祥佑 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;罗延红 |
| 地址： | 韩国京畿道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
1、一种曝光系统，包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。
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