[发明专利]获得涨缩量参数并提高光刻设备分辨率方法、装置和系统有效
| 申请号： | 200810115801.7 | 申请日： | 2008-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101614962A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 谢春希;谢丁生;潘川 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100871北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种获得涨缩量参数(bias)的方法，包括：利用多个涨缩量bias参数调整多个目标图形中目标线条的线宽，其中，一个目标图形对应一个bias参数；对所述目标图形进行曝光；测量曝光后的图像，获得最佳bias参数，并应用于产品掩膜版的目标图形中。通过本发明，可以提高光刻设备的分辨率，并且该方案实现简单，能够大批量执行，降低了批量生产的成本。本发明还公开了一种获得涨缩量参数的装置和利用获得的涨缩量参数提高光刻设备分辨率的方法和系统。 | ||
| 搜索关键词： | 获得 涨缩量 参数 提高 光刻 设备 分辨率 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
1、一种获得涨缩量参数的方法，其特征在于，该方法包括：利用多个涨缩量bias参数调整多个目标图形中目标线条的线宽，其中，一个目标图形对应一个bias参数；分别对所述目标图形进行曝光；从曝光后得到的图像中查找出分辨率的数值达到设定值的图像，将该图像在曝光前的目标图形对应的bias参数作为目标bias参数。
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