[发明专利]一种纳米光刻对准系统无效
| 申请号： | 200810111724.8 | 申请日： | 2008-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101281378A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 马平;邢薇;胡松;唐小萍;王建 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种纳米光刻对准系统，其特征在于：对准光源发出的光线经透镜A、分光镜A反射、显微物镜后照射在掩模和硅片上，掩模和硅片上的衍射光栅标记在对准光源作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模上的对准标记图像经显微物镜、分光镜A、分光镜B、透镜B到达反射镜A，经反射镜A反射回来的光线经透镜B、分光镜B到达CCD进行成像；硅片上的对准标记图像经掩模、显微物镜、分光镜A和分光镜B透射后到达补偿光路，从补偿光路反射回的光线，经分光镜B到达CCD进行成像；CCD同时对掩模和硅片上的光栅对准标记成像；基于CCD采集的干涉条纹图像，采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准。该系统具有对准标记采集视场大、对准精度高等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 光刻 对准 系统 | ||
【主权项】：
1、一种纳米光刻对准系统，其特征在于：它包括光源(110)、透镜A(111)、硅片(112)、掩模(113)、显微物镜(114)、分光镜A(115)、CCD(116)、分光镜B(117)、透镜B(118)、反射镜A(119)，和由透镜C(201)反射镜B(202)组成补偿光路；当对准光源(110)发出的光线经透镜A(111)、分光镜A(115)反射、再经显微物镜(114)后照射在掩模(113)和硅片(112)上，掩模(113)和硅片(112)上的衍射光栅标记在对准光源(110)的作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模(113)上的对准标记图像经显微物镜(114)、分光镜A(115)透射后，经分光镜B(117)反射通过透镜B(118)、到达反射镜A(119)，再由反射镜A(119)再次反射回来的光线经透镜B(118)，通过分光镜B(117)透射到达CCD(116)进行成像；而另一路硅片(112)上的对准标记图像经掩模(113)、显微物镜(114)后、通过分光镜A(115)和分光镜B(117)透射后、到达补偿光路(200)，从补偿光路(200)反射回来的光线，经分光镜B(117)反射到达CCD(116)进行成像；此时，CCD(116)同时对掩模(113)和硅片(112)上的光栅对准标记所形成的空间干涉莫尔条纹进行成像；基于CCD(116)采集到的干涉条纹图像，本系统采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准。
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