[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200810110150.2 | 申请日： | 2008-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101377624A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 佐藤仁;山贺胜 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种不会产生垃圾或者尘埃，可以高精度地将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。曝光装置(100)具有使送出被曝光体(T)的供给盘旋转的供给盘旋转部(61)、引导由该供给盘旋转部旋转而从供给盘送出的被曝光体的导向辊(63)、为了沿着曝光台搬送来自导向辊的被曝光体而设置在该曝光台两侧的第一搬送辊(64)以及第二搬送辊(66)、配置在导向辊和第一搬送辊之间，在被曝光体上描绘用于与电路图案掩膜(M)进行对位的校准标记(AM)的校准标记描绘部(30)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，将具有所定宽度的胶卷状的被曝光体送入曝光台上，将电路图案掩膜的图案曝光在被曝光体上，其特征在于，包括：供给盘旋转部，使送出上述被曝光体的供给盘旋转；导向辊，引导从上述供给盘送出的上述被曝光体，该被曝光体由上述供给盘旋转部旋转而被送出，校准标记描绘部，配置在上述导向辊和上述曝光台之间，在上述被曝光体上描绘用于与上述电路图案掩膜进行对位的校准标记。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ORC制作所，未经株式会社ORC制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810110150.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
