[发明专利]离子阱、质量分析计、离子迁移率分析计有效
| 申请号： | 200810109182.0 | 申请日： | 2008-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101335177A | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 马场崇;佐竹宏之;永野久志 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | H01J49/40 | 分类号： | H01J49/40;H01J49/42;H01J49/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种离子阱、质量分析计、离子迁移率分析计，其课题在于提供一种小型、廉价、简便的质量分析单元，其能够应用可以实现无需在以往的质量分析方法中必须的高真空的低真空中的动作、小型且电极个数少并且形状易于加工、进而无需电子倍增管等放大的检测离子电流的离子检测方法。在该真空区域中以往使用离子迁移率分析单元，但通过本方式可以提供新的质量分析手段，可以针对各种应用显著地提高分析精度。使用在本发明中公开的一维离子阱。基于一维离子阱的质量分析单元可以囚禁大量的离子，可以提供能够在低真空中动作的质量分析方式，所以可以实现不使用高真空的质量分析单元。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 质量 分析 离子迁移率 | ||
【主权项】：
1.一种离子阱，其特征在于，在由基于直流电压的电势和基于交流电压的电势形成的一维电势中捕捉带电粒子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所，未经株式会社日立制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810109182.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
