[发明专利]制作光管理基片的方法和装置无效
| 申请号： | 200810099094.7 | 申请日： | 2003-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN101276006A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 尤金·奥尔克扎克;欧文·W·梁 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02F1/13357;G05B19/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学基片、具有这种光学基片的显示器设备以及用于加工工件表面的方法。所述光学基片包括：多个棱形结构，所述棱形结构中的一个或多个棱形结构沿一路径在横向上被调制，其中所述路径本质上是定义在一坐标系的一个区间C上的一数学函数，其特征在于一组非随机的、随机的或者准随机的参数。本发明通过最小化很多可能的光学干涉和耦合改善了光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 管理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学基片，包括：多个棱形结构，所述棱形结构中的一个或多个棱形结构沿一路径在横向上被调制，其中所述路径本质上是定义在一坐标系的一个区间C上的一数学函数，其特征在于一组非随机的、随机的或者准随机的参数。
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