[发明专利]曝光绘图装置有效
| 申请号： | 200810096063.6 | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101320220A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 石桥臣友;清水修一 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种曝光绘图装置，在基板的两面上形成将在绘图电路图案时所必要的对位符号。曝光绘图装置(10)包括：基板投入部(20)，将形成有感光层的基板(CB)投入至基板校正位置；校正部(30)，将被投入至此基板校正位置的上述基板校正至规定位置；符号形成部(40)，对于通过校正部被校正的基板的第一面以及第二面，形成第一及第二对位符号；以及绘图部(60)，基于第一及第二对位符号，将电路图案绘图至基板的第一面及第二面。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 绘图 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光绘图装置，其特征在于，包括：基板投入部，其将形成有感光层的基板投入至基板校正位置；校正部，其将被投入至该基板校正位置的上述基板校正至规定位置；符号形成部，其在通过上述校正部被校正的基板的第一面以及第二面上形成第一及第二对位符号；以及绘图部，其根据上述第一及第二对位符号，将电路图案绘图至上述基板的第一面及第二面。
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