[发明专利]显示装置的栅极驱动电路以及制作显示装置的器件的方法有效
申请号: | 200810095225.4 | 申请日: | 2008-05-05 |
公开(公告)号: | CN101266951A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 蔡东璋;张立勋;石明昌;陈静茹;曾贵圣 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/84 | 分类号: | H01L21/84;H01L21/336;H01L21/28;H01L27/12;H01L29/786;H01L29/06;G03F7/00;G02F1/1362;G09G3/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种显示装置的栅极驱动电路以及制作显示装置的器件的方法。该方法依序形成一绝缘层、一半导体层、一欧姆接触层、第二导电层与一光刻胶图案,其中该光刻胶图案包括第一厚度区,以及第二厚度区位于该第一厚度区的外围,且该第二厚度区的厚度小于该第一厚度区的厚度。该驱动电路则包括一具有下拉晶体管的栅极驱动电路结构,其设于一周边区内,该下拉晶体管包括一栅极、一半导体岛状结构、一源极与一漏极,且该半导体岛状结构是突出于该栅极、该源极与该漏极的边缘。本发明的方法是利用具有不同厚度的光刻胶图案进行微影与刻蚀制造工艺加以制作,故其所形成的显示装置的器件较不会有金属图案损失的问题。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 栅极 驱动 电路 以及 制作 器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制作显示装置的器件的方法,该方法包括:提供一基板;于该基板上形成第一导电层;图案化该第一导电层,以形成第一导电结构;以及依序于该第一导电结构上形成一绝缘层、一半导体层、一欧姆接触层、第二导电层与一光刻胶图案,其中该光刻胶图案包括第一厚度区,以及第二厚度区位于所述的第一厚度区的外围,且该第二厚度区的厚度小于所述的第一厚度区的厚度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造