[发明专利]制造有机发光设备的方法有效
| 申请号： | 200810093544.1 | 申请日： | 2008-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN101296537A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 德永雄三;大塚学;真下精二;远藤太郎;西田直哉 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/22;H05B33/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 魏小薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种制造有机发光设备的方法，所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜，所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极，所述方法包括：通过在10Pa或更高～10000Pa或更低的范围内的压力下，在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时，用UV光照射至少具有下电极和所述下电极上形成的器件分离膜的基底，从而清洁所述基底；在清洁后的下电极上形成有机化合物层；以及在所述有机化合物层上形成上电极。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 有机 发光 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造有机发光设备的方法，所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜，所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极，所述方法包括：通过在10Pa或更高～10000Pa或更低的范围的压力下，在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时，用UV光照射至少形成有下电极和器件分离膜的基底，从而清洁所述基底；在清洁后的下电极上形成有机化合物层；以及在所述有机化合物层上形成上电极。
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