[发明专利]制造有机发光设备的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种制造能够被用于图像显示设备、照明系统等的有机发光设备的方法。

背景技术

在1987年，Tang等人提出了一种有机发光器件(有机EL(电致发光)器件)，所述有机发光器件具有这样的配置：其中，层叠具有不同载流子输送性的有机化合物，并且从阳极和阴极以良好的平衡分别注入空穴和电子。具体地，通过将有机化合物层(有机EL层)的厚度设定为200nm或更低所制造的器件已经实现了在10V电压下1000cd/m²的效率和照度，这是至今未实现过的。

此后，至今为止已经进行了尝试以便在更低的电压下获得高照度发光。例如，日本专利申请特开第H07-142168号公开了，ITO阳极经受作为有机EL层形成之前的处理的UV处理或等离子处理，从而发光阈值降低以增强电流特性，并且发光特性随时间的劣化被抑制。

日本专利第3,704,883号公开，在降低的压力下连贯地执行形成阳极基底的工序、形成有机EL层之前的处理、有机EL层的形成、以及阴极的形成。更具体地，通过干蚀刻执行对阳极的构图，并且在降低的压力下连贯地连续执行UV臭氧处理和氧气等离子处理，从而阳极表面变得干净，阳极被适当氧化以增强空穴注入特性，使发光均匀，驱动电压降低，并且寿命延长。

日本专利申请特开第H11-045779号公开一种技术，该技术包括：通过在降低的压力下利用臭氧发生器产生的臭氧来清洁阳极基底，从而不使用UV光或等离子而执行形成有机EL层之前的处理。

日本专利第3,394,130号公开一种技术，该技术包括在0.0001到0.1Pa的降低的压力下用具有方向性的UV光照射基底，并且将基底输送到具有更高环境压力的有机EL层形成室，以形成有机EL层，从而防止基底在形成有机EL层之前的处理室中被污染。

日本专利申请特开第2000-353593号描述了，在存在氧气和氮气的情况下，基底侧的第一电极被形成并且被来自UV光灯的UV光照射，从而清洁具有第一电极的基底。描述了在清洁期间，优选将清洁室中的压力调节为4.00Pa～环境压力。还作为示例描述了，利用负光致抗蚀剂形成分隔壁，此后引入氧气和氮气，并且在环境压力下清洁带有电极的基底。

在发光设备中所使用的有机EL器件中，为了限定基底侧的电极的发光面积和形状，以及为了使得能够进行像素的独立发光，一般形成主要包括树脂材料和无机材料的器件分离膜。一般通过将基底侧的电极(下电极)形成为阳极或者阴极，然后通过在电极的表面上均匀涂覆树脂材料、无机材料、或者其前体，或者通过利用诸如CVD之类的膜形成方法，形成这种器件分离膜。此后，利用光致抗蚀剂方法等处理所述器件分离膜，使得要成为像素电极的基底侧的电极被露出。

在具有器件分离膜的有机EL器件中，在一些情况下，可能不能获得充分的驱动耐久特性，并且在器件被置于高温和高湿度下之后发光状态会变得不均匀。认为这是由在上述器件分离膜的形成期间，在露出的像素电极上残留有器件分离膜材料或者光致抗蚀剂工序中使用的抗蚀剂材料而引起的，以及由器件分离膜中储存的水分引起的。

此外，器件分离膜通过上述UV处理或等离子处理而分解，并且分解后的物质也被认为通过粘附到像素电极的表面上而引起上述问题。也就是说，还没有这样一种用于形成有机EL层之前的处理的技术，其中形成有电极和器件分离膜的基底被有效清洁，并且满足充分的驱动耐久特性和放置耐久特性。

在上述日本专利第3,704,883号中，通过干蚀刻执行阳极的构图，并且在降低的压力下连贯地执行UV臭氧处理和氧气等离子处理，从而阳极表面变得清洁，并且阳极被适当氧化以增强空穴注入特性。此外，作为利用UV臭氧进行清洁的方法，氧气气体从高真空状态被引入使得获得0.01torr(大约1.33Pa)或更高的压力，并且照射UV光。

然而，根据这种方法，不能形成器件分离膜，或者要使用的材料等需要被严格限制，因此无法实现要成为高质量发光设备的有机EL器件。

日本专利申请特开第H11-045779号利用一种方法，所述方法包括用臭氧发生器产生的臭氧清洁像素电极的表面，而不使用UV光。然而，根据该方法，由于不获得利用UV能量切断分子间键的效果，因此污染物和残留物的分解并不充分进行。因此，不能获得优异的驱动耐久特性。

上述的日本专利第3,394,130号利用一种方法，所述方法包括在0.0001到0.1Pa的降低的压力下照射具有方向性的UV光。然而，在这个压力范围中无法产生所需量的臭氧和活性氧气，并且无法满足优异的驱动耐久特性。