[发明专利]测量薄膜厚度的装置和方法有效
| 申请号： | 200810093249.6 | 申请日： | 2008-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN101294795A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 西田和史;角田重幸 | 申请（专利权）人： | 横河电机株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈源;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的薄膜厚度测量装置包括：光源，其发射将要照射在多层薄膜上的白光；分光器，其对由于将白光照射在多层薄膜上而得到的反射光进行色散以得到反射光谱；和计算部分，所述计算部分包括：设置部分，其为反射光谱设置多个波长范围；第一转换部分，其通过分别对反射光谱中的处在由所述设置部分设定的多个波长范围内的反射光谱进行等间隔重排序来获得波数范围反射光谱；第二转换部分，其将在所述第一转换部分中得到的多个波长范围内的波数范围反射光谱分别转换成功率谱；以及运算部分，其基于功率谱得到多层薄膜的薄膜厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 薄膜 厚度 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜厚度测量装置，包括：光源，其发射将要照射在多层薄膜上的白光；分光器，其对由于将白光照射在多层薄膜上而得到的反射光进行色散以得到反射光谱；和计算部分，所述计算部分包括：设置部分，其为反射光谱设置多个波长范围；第一转换部分，其通过分别对反射光谱中的处在由所述设置部分设定的多个波长范围内的反射光谱进行等间隔重排序来获得波数范围反射光谱；第二转换部分，其将在所述第一转换部分中得到的处在多个波长范围内的波数范围反射光谱分别转换成功率谱；以及运算部分，其基于功率谱得到多层薄膜的薄膜厚度。
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