[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200810092608.6 | 申请日： | 2006-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN101256365A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | M·巴克斯;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;J·H·W·雅各布斯;N·坦卡特;N·R·坎帕;F·米各彻尔布林克;E·伊弗斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统；配置成将液体提供到投影系统的最后一个元件和基底之间的空间中的液体供给系统；和控制系统，其配置成动态地改变使用液体供给系统从所述空间引出液体的速度和/或动态地改变使用液体供给系统供给液体的速度，使得所述空间内的液体高度保持在预定的最小值和预定的最大值之间。
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