[发明专利]检验方法和设备、光刻处理单元和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 200810092085.5 申请日: 2008-01-16
公开(公告)号: CN101261452A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: 雨果·奥古斯蒂纳斯·约瑟夫·克拉梅尔;安托万·加斯东·马里·基尔斯;迪克·厄德·范德普洛格;戈采·诺姆斯凯;罗兰·马克·范威尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种检验方法和设备、光刻处理单元和器件制造方法。所述检验方法为目标建立模型轮廓。该方法的实施例包括输入已知对象的图像并且既可以手工也可以自动的在该图像上添加估计的轮廓。该估计的轮廓被以数学方式定义,并且被逐段地调整以便与该图像匹配,以使得将该调整后的估计的轮廓可以被存储到与该图像相关的衍射光谱的旁边。替代地或附加地,使用者可以描绘(或自由绘制)已知图像的轮廓并且随后将数学函数的形状定义器(例如多项式方程、样条或向量)绘制在估计的轮廓上,以便获得轮廓以及该轮廓的一个或多个变量,所述变量可以被用于根据其衍射图案重构未知对象的轮廓。
搜索关键词: 检验 方法 设备 光刻 处理 单元 器件 制造
【主权项】:
1、一种定义轮廓的方法,使得所述轮廓的定义能够被用于根据来自对象的衍射辐射重构对象的轮廓,所述方法包括:利用已知对象的信息定义轮廓;利用数学函数描述所述轮廓的表面;在数学函数中选择可变参数并且迭代地改变所述可变参数直到所述轮廓的计算衍射图案与所述已知对象的衍射图案相匹配;以及存储所述轮廓以及所述可变参数。
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