[发明专利]硅石还原法生产硅无效

专利信息
申请号: 200810091442.6 申请日: 2008-04-12
公开(公告)号: CN101555011A 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: (请求不公开姓名) 申请(专利权)人: 于旭宏
主分类号: C01B33/023 分类号: C01B33/023
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200235上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及将硅石还原获得硅的工业生产方法。利用杂质含量受到控制的含碳质素的还原剂在高温下还原杂质含量受到控制的硅石,可以生产出杂质如铁、铝、钙、锰等符合一定要求的不同用途的硅原料,包括硅铁,金属硅,化学用硅等。
搜索关键词: 硅石 还原法 生产
【主权项】:
1、一种硅或硅合金的生产方法,其特征是,采用碳化硅作还原剂,在高温下还原硅石(二氧化硅),或硅石和含合金元素的矿石混合料,生成硅或硅合金。
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