[发明专利]转印用基板和有机电致发光器件的制造方法无效
| 申请号： | 200810091112.7 | 申请日： | 2008-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN101282603A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 高木亮子;松波成行;鬼岛靖典 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/14;C09K11/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 披露一种转印用基板，转印用基板在支撑基板上依次形成有光热转化层和转印层。转印层由选自第一有机材料和第二有机材料的有机材料形成，第一有机材料具有低于500℃的失重起始温度Tsub并且在大气压下升华，第二有机材料具有低于500℃的失重起始温度Tsub并且满足下述不等式：Tsub－Tm＜200℃(Tsub：第二有机材料的失重起始温度，Tm：第二有机材料的熔点)。还披露一种该采用转印用基板制造有机电致发光器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 转印用基板 有机 电致发光 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种转印用基板，其在支撑基板上依次形成有光热转化层和转印层，其中所述转印层由选自第一有机材料和第二有机材料的有机材料形成，所述第一有机材料具有低于500℃的失重起始温度Tsub *并且在大气压下升华，所述第二有机材料具有低于500℃的失重起始温度Tsub并且满足下述等式(1)： Tsub-Tm＜200℃…(1)其中Tsub：所述第二有机材料的失重起始温度，和Tm：所述第二有机材料的熔点。
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