[发明专利]曝光绘图装置有效
| 申请号： | 200810088524.5 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101276157A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 李德;山下大辅;松田政昭;石川淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/32;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个空间光调制组件，确保高的运转率，且可进行温度管理。其解决方式为，曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调制装置(41)，将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 绘图 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光绘图装置，其包括：光源，其照射紫外线；第一照明光学系统，其使来自上述光源的光束形成为平行光；有孔构件，其设有用于将来自上述第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗及第二矩形窗；第一及第二空间光调制装置，其将在上述有孔构件被分离的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统，其将在该第一及第二空间光调制装置中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
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