[发明专利]热发射电子源的制备方法在审
申请号: | 200810066570.5 | 申请日: | 2008-04-11 |
公开(公告)号: | CN101556888A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 肖林;刘亮;刘长洪;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J9/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084北京市海淀区清华园1*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种热发射电子源的制备方法,其包括以下步骤:制备一碳纳米管薄膜;提供一含有低逸出功材料或低逸出功材料前驱物的溶液,采用此溶液浸润上述碳纳米管薄膜;采用机械方法处理浸润后的碳纳米管薄膜形成一碳纳米管绞线;烘干该碳纳米管绞线;激活烘干后的碳纳米管绞线,得到热发射电子源。 | ||
搜索关键词: | 发射 电子 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种热发射电子源的制备方法,包括以下步骤:制备一碳纳米管薄膜;提供一含有低逸出功材料或者低逸出功材料前驱物的溶液,采用此溶液浸润上述碳纳米管薄膜;采用机械方法处理浸润后的碳纳米管薄膜形成一碳纳米管绞线;烘干该碳纳米管绞线;以及激活烘干后的碳纳米管绞线,即得到热发射电子源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司,未经清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810066570.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:液晶显示装置、偏振板以及背光源
- 下一篇:视频编码处理方法和装置