[发明专利]一种基于层状组装技术制备防雾抗反射涂层的方法无效

专利信息
申请号: 200810051126.6 申请日: 2008-08-27
公开(公告)号: CN101344601A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 孙俊奇;张连斌;沈家骢 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02B1/11;B08B3/04
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130023吉林省*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明属于薄膜涂层技术领域,涉及一种基于层状组装技术在光学基底表面制备具有防雾抗反射双重功能组装膜涂层的方法。这种防雾抗反射涂层可以减少表面对光线的反射损失,也可以有效抑制水滴在涂层表面的结雾现象。本发明制备的防雾抗反射涂层不但可以在平面基底进行制备,也可以在一些具有复杂形状的光学基底表面进行制备。在制备过程中完全基于水溶液,同时又不需要采用复杂的仪器和原料,因此是一种绿色环保、价格低廉的制备技术。在制备过程中的高温热处理过程使得薄膜涂层获得了优异的机械稳定性,因而这种涂层能够满足日常使用中对薄膜涂层机械性能的要求。本发明制备方法的使用有望实现防雾抗反射涂层在更加广泛的领域中的应用。
搜索关键词: 一种 基于 层状 组装 技术 制备 防雾抗 反射 涂层 方法
【主权项】:
1、一种基于层状组装技术制备防雾抗反射涂层的方法,其包括如下步骤:A.基底的表面处理:将基底依次用几种极性不同的溶剂、按溶剂极性从小到大的顺序进行清洗;然后通过自组装方法或聚电解质吸附法,在基底表面上引入氨基、羧基或羟基的有利于多层膜制备的基团;B.组装膜涂层的制备:将步骤A获得的基底首先浸入与其表面电荷属性相反的聚阴离子构筑基元溶液或聚阳离子复合物构筑基元溶液中浸泡5~30min,用浸泡或冲洗的方法去除基底表面物理吸附的构筑基元;然后再浸入聚阳离子复合物构筑基元溶液或聚阴离子构筑基元溶液中浸泡5~30min,用浸泡或冲洗的方法去除基底表面物理吸附的构筑基元,从而在基底上完成一个周期的层状组装膜涂层的制备;C.多层组装膜涂层的制备:重复步骤B,进而在基底上得到厚度可控的沉积有多个周期的层状组装膜涂层;D.煅烧制备防雾抗反射涂层:将由步骤了C得到的沉积有多个周期的组装膜涂层的基底置于500~800℃的高温马弗炉内煅烧1~10小时,组装膜涂层中的有机物组分在高温作用下灰化,从而留下完全由SiO2 材料形成的机械性能良好的纳米多孔,得到具有防雾及抗反射作用的纳米多孔涂层。
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