[发明专利]光学元件的抛光模及制备方法有效
| 申请号： | 200810046157.2 | 申请日： | 2008-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101367185A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 陈兴建;曾贤高 | 申请（专利权）人： | 成都贝瑞光电子材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 成都市辅君专利代理有限公司 | 代理人： | 胡承锦;杨海燕 |
| 地址： | 610000四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明光学元件的抛光模属于光学元件在抛光过程中与被抛光物表面磨擦接触的模以及制备方法，尤其是硒化锌光学元件的抛光模。抛光模：由按重量比为500份的抛光沥青，和20～200份的氧化铝粉组成；抛光沥青是55#～82#抛光沥青，抛光沥青是最佳用美国环球光学有限公司生产的914CP抛光沥青即64#抛光沥青，氧化铝粉的粒度为0.50～2.00微米。制备步骤：加热熔化抛光沥青、混均、固化、开掘储磨料槽。本发明提供的抛光模对硒化锌光学元件抛光表面光洁度可达到10/5以上，明显高于美军标40/20的精度要求。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.光学元件的抛光模，由按重量比为500份的抛光沥青，和20～200份的氧化铝粉组成；抛光沥青是55#～82#抛光沥青，氧化铝粉的粒度为0.50～2.00微米。
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