[发明专利]探测当前层曝光步进精度的方法无效
| 申请号： | 200810043869.9 | 申请日： | 2008-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN101727012A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 王雷 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种探测当前层曝光步进精度的方法，包括以下步骤：步骤一、在重复曝光单元中放置对准图形，光罩平台和曝光平台精度校准，光刻机曝光显影；步骤二、显影完成后，再进行一次光刻机对准，得到曝光完成后各重复单元在硅片上的位置；步骤三、通过步骤二中得到的各重复单元的位置，判断是否符合步进精度的需求；步骤四、如不符合步进精度的需求，则判定不合格，重复步骤一；如符合步进精度的需求，则判定合格。本发明可以实现对当前层曝光步进精度的自动检测，减少工艺步骤，提高自动化程度，降低产品成本。 | ||
| 搜索关键词： | 探测 当前 曝光 步进 精度 方法 | ||
【主权项】：
一种探测当前层曝光步进精度的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、在重复曝光单元中放置对准图形，光罩平台和曝光平台精度校准，光刻机曝光显影；步骤二、显影完成后，再进行一次光刻机对准，测量得到曝光完成后各重复单元在硅片上的位置；步骤三、通过步骤二中得到的各重复单元的位置，判断是否符合步进精度的需求；步骤四、如不符合步进精度的需求，则判定不合格，重复步骤一；如符合步进精度的需求，则判定合格。
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