[发明专利]一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置

摘要

本发明提供一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置，采用相位探测和幅值探测相结合的原理，对准精度高。对准标记至少包含第一光栅和第二光栅，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。同时，组成对准标记的第一光栅和第二光栅沿垂直于对准方向的方向排列，并且用于x方向对准的对准标记位于y方向的划线槽中，用于y方向对准的对准标记位于x方向的划线槽中，有效解决信号的串扰问题。照明光束为沿垂直于对准方向的方向延伸的长椭圆形光斑，提高了光源的能量利用率，有利于提高对准信号强度和探测的动态范围。

主权项

1. 一种用于光刻装置的对准系统，其特征在于，至少包括：光源模块，提供用于对准系统的照明光束；照明模块，传输光源模块的照明光束，照明晶片上的对准标记；成像模块，对对准标记成像，其至少包括物镜和第一成像光路，该模块通过物镜收集对准标记的反射光和衍射光，并且传输到所述第一成像光路对所述对准标记成像；探测模块，至少包括参考标记和第一探测光路，所述探测模块通过第一探测光路来探测对准标记经成像模块的第一成像光路成像后并通过参考标记调制的透射光强，在对准标记扫描过程中得到第一光信号和第二光信号；信号处理和定位模块，用于处理所述第一光信号和第二光信号，并结合第一光信号的幅值信息和第二光信号的位相信息确定对准标记的位置信息。