[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 200810032826.0 | 申请日： | 2008-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN101487978A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 朴世镇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括：激光源，发射单束激光束；分光系统，将激光源发出的单束激光束分成第一束激光束和第二束激光束；X方向成像系统，接收分光系统发射的第一束激光束并对X极掩模版电路图形进行成像；Y方向成像系统，接收分光系统发射的第二束激光束并对Y极掩模版电路图形进行成像；转像系统，接收X方向成像系统出射的第一束激光束并进行发射，及接收Y方向成像系统出射的第二束激光束并进行发射。本发明还提供一种曝光方法。本发明简化了光刻步骤，节省了成像时间。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光装置，包括：激光源，发射单束激光束；分光系统，将激光源发出的单束激光束分成第一束激光束和第二束激光束；X方向成像系统，接收分光系统发射的第一束激光束并对X极掩模版电路图形进行成像；Y方向成像系统，接收分光系统发射的第二束激光束并对Y极掩模版电路图形进行成像；转像系统，接收X方向成像系统出射的第一束激光束并进行发射，及接收Y方向成像系统出射的第二束激光束并进行发射。
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