[发明专利]一种减小OPC模型残余误差的方法

摘要

本发明提供了一种减小OPC模型残余误差的方法，将获得OPC模型的残余误差乘上选取的影响因子值修正OPC模型模拟图案的CD数据；然后计算修正模型残余误差的平均值，再通过改变影响因子的值计算不同影响因子下得出的OPC模型残余误差的平均值，综合比较不同影响因子计算出的模型残余误差的平均值大小，确定模型残余误差的平均值最小时对应的影响因子值，将此影响因子与OPC模型模拟的设计图案采样点的残余误差值相乘来修正OPC模型模拟的设计图案采样点的CD数据，从而可有效减小OPC模型残余误差，提高OPC模型的精度，提高OPE修正效率。

主权项

1、一种减小OPC模型残余误差的方法，OPC模型可用于模拟设计图案曝光后的图案，其特征在于，它包括以下步骤：步骤11：提供针对测试图案上一系列采样点的模型残余误差值，选取影响因子的初始值；步骤12：将所述测试图案上所有采样点的模型残余误差值乘上影响因子值后修正所述测试图案上采样点的特征尺寸数据；步骤13：将步骤12中所述修正的测试图案上采样点特征尺寸数据作为所述OPC模型模拟的设计图案的采样点特征尺寸数据后获得测试图案采样点的模型残余误差，并计算所述获得的测试图案采样点的模型残余误差的平均值；步骤14：改变影响因子值后作为所述步骤12中影响因子值，返回步骤12，若干次改变影响因子值后，执行步骤15；步骤15：比较不同影响因子值计算出的所述测试图案采样点的模型残余误差平均值大小，确定所述测试图案采样点的模型残余误差平均值最小时对应的影响因子值；步骤16：将所述步骤15确定的模型残余误差平均值最小的影响因子值乘上所述OPC模型模拟的设计图案采样点的模型残余误差值后修正OPC模型模拟的设计图案采样点的特征尺寸数据。